半导体大利好！光刻机65nm大突破！影响到底有多大？上车机会？

　　国产氟化氪光刻机（110nm），和氟化氩光刻机（65nm）的相关内容。这意味着什么？对

　　根据文件内容以及网络上的消息，现在中国的光刻机攻坚，有多个团队和产品在同时研发中。而中电科的65nm光刻机应该2年前研发成功，目前大概率已经进入了小规模试产状态。

　　一方面，国产光刻机分辨率的突破，意味着国内半导体制造企业将能够生产更高精度的芯片，缩小与国际先进水平的差距，增强国内半导体产业链的自主性和可控性。

　　另外一方面，随着5G、物联网、人工智能等新技术的快速发展，对半导体芯片的需求日益增长。国产光刻机的技术进步将有助于提高国内半导体产业的供给能力，对大科技其它产业链也是利好。

　　首先，从自主可控角度看，在特殊的背景下，半导体行业自主可控迫在眉睫，国产光刻机在分辨率上实现≤65nm的突破，提振了整个半导体行业的信心。

　　其次，从行业复苏角度看，在Ai、数字经济的发展背景下，半导体行业今年迎来明显的复苏，下半年业绩有望得到提振。

　　最后，从市场表现看，国证芯片近3年幅度超50%，今年跌超18%，随着下半年业绩的恢复，具备较大反弹空间。

　　所以，小财认为，65nm光刻机的突破，对国内半导体行业是一个提振，在自主可控、行业复苏和深度调整的背景下，半导体板块接下来值得重点关注。返回搜狐，查看更多